氨的逃逸主要通過以下兩種途徑：一是以游離氨的形式隨煙氣逃逸到大氣中；二以硫酸銨的形式逃逸到大氣中，且硫酸銨主要以氣溶膠的形式隨煙氣帶出塔外，后者是氨逃逸的主要形式。

“氨逃逸”形成原因主要有以下幾個(gè)方面：

1）工藝原因，由于入口氣體的溫度偏高，燒結(jié)煙氣的溫度可達(dá)到140℃左右，加之氨水揮發(fā)性強(qiáng)，容易導(dǎo)致氨水揮發(fā)，揮發(fā)量受氨水濃度、煙氣溫度、氣體流速等因素的影響。氨氣的揮發(fā)不但影響脫硫效率，而且容易形成氣溶膠。氣溶膠是導(dǎo)致硫銨逃逸嚴(yán)重的主要原因，其粒度在亞微米級(jí)別，目前氨法脫硫常用的折流板除霧器和波紋板除霧器無法將其脫除，容易隨著煙氣帶出塔外。其形成原因主要是由于煙氣中的游離氨易與氣態(tài)SO2、H2O通過氣相反應(yīng)形成(NH4)2SO3，(NH4)2SO3液滴懸浮在吸收塔內(nèi)容易形成“氣溶膠”狀態(tài)。

2）操作參數(shù)設(shè)置的影響，為此，國內(nèi)外學(xué)者為尋找氨法脫硫工藝的最佳工藝參數(shù)做了大量的研究工作，主要包括煙氣流速、液氣比(L/G)、吸收液濃度、吸收液pH值和進(jìn)口SO2濃度等方面。實(shí)驗(yàn)室研究得出的結(jié)果為：液氣比為3~4L/m3、脫硫液的pH為5~6、煙氣流速為1.5~2.0m/s時(shí)的效果較理想。但在實(shí)際工程應(yīng)用中，吸收塔引入二層噴淋情況下的液氣比達(dá)到5.6L/m3，煙氣吸收塔內(nèi)的流速為3.6m/s以上。理論上，若采用稀氨水和較低的煙氣溫度可有效減少氨逃逸。實(shí)際工程應(yīng)用中，考慮到氣液兩相的傳質(zhì)效果，氨水濃度必須保持在20%左右。燒結(jié)煙氣的溫度約為140℃，若要降低煙氣溫度，必須對(duì)現(xiàn)有系統(tǒng)進(jìn)行改造，加大了生產(chǎn)成本。因此，最佳操作參數(shù)的確定不但需要實(shí)驗(yàn)論證，更重要的是要結(jié)合現(xiàn)場的實(shí)際情況，在不但實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)中獲取合適的操作參數(shù)，在不影響吸收塔正常運(yùn)行的情況下盡可能降低“氨逃逸”水平。

3）吸收塔氣流分布不均的影響，氨法脫硫系統(tǒng)在實(shí)際工程應(yīng)用中，由于受煙氣入口速度高、入口角度、位置和塔徑等因素的影響，容易造成氣流分布不均的問題。僅僅依靠氣流自身擴(kuò)容、慣性和擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)和噴淋液的整流作用的氣流均布效果有限，導(dǎo)致大量煙氣進(jìn)入塔體后仍沿遠(yuǎn)離入口一側(cè)運(yùn)動(dòng)，造成煙氣流在吸收塔內(nèi)分布不均，導(dǎo)致煙氣難以與噴淋液充分接觸，嚴(yán)重影響氣液兩相傳質(zhì)，既降低了吸收液利用率又降低了脫硫效率。塔內(nèi)氣流分布不均還導(dǎo)致煙氣集中區(qū)域的氣速過高，局部氣速過高不但縮短了氣液兩相接觸時(shí)間，同時(shí)還影響除霧器性能的發(fā)揮，導(dǎo)致煙囪出口處帶漿液現(xiàn)象嚴(yán)重。

4）除霧器除霧效率不高的影響，氨法單塔脫硫系統(tǒng)常用的除霧器為帶倒鉤的波紋板除霧器，由于該除霧器的除霧效率不高，導(dǎo)致硫銨液滴易隨煙氣帶出塔外。絲網(wǎng)除霧器的除霧效率高，對(duì)微米級(jí)的顆粒的除霧效率可達(dá)到97%以上。部分燒結(jié)廠在除霧器上部再增設(shè)一級(jí)絲網(wǎng)除霧器以提高氣溶膠的捕集效果。但在實(shí)際工程應(yīng)用中，由于絲網(wǎng)除霧器沖洗效果不理想，導(dǎo)致硫銨顆粒極容易粘在絲網(wǎng)上造成結(jié)垢和堵塞，不僅導(dǎo)致吸收塔壓降升高，嚴(yán)重時(shí)可導(dǎo)致整個(gè)系統(tǒng)停運(yùn)。因此，除霧效率高的除霧器，如絲網(wǎng)除霧器和纖維除霧器等容易造成結(jié)垢和堵塞，不適合應(yīng)用在氨法單塔脫硫系統(tǒng)中。

氨逃逸的檢測(cè)與治理
一、    產(chǎn)品概述

TK-1100型氨逃逸監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)是由我公司榮譽(yù)出品，本系統(tǒng)包括預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜（DOAS）技術(shù)及可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)；紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過對(duì)連續(xù)光譜做算法分析，可同時(shí)測(cè)量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；激光光譜氣體分析技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用到對(duì)于靈敏度、響應(yīng)時(shí)間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測(cè)領(lǐng)域。

本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)耐用且易于安裝，特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過程氣體排放監(jiān)測(cè)，包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。

二、氨逃逸形成及危害

    2.1 氨逃逸的形成

     在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領(lǐng)域，例如燃煤發(fā)電廠，都安裝了前燃（pre-combustion)或后燃（post combustion）NOX 控制技術(shù)的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術(shù)可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無論應(yīng)用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過往反應(yīng)器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應(yīng)區(qū)的空間分布便可以最大化的降低NOX 排放。氨注入的過少，就會(huì)降低還原轉(zhuǎn)化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因?yàn)檫^量的氨導(dǎo)致NH3 逃逸出反應(yīng)區(qū)，逃逸的NH3 會(huì)與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應(yīng)生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會(huì)在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預(yù)熱器扇面上，會(huì)造成嚴(yán)重的設(shè)備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護(hù)費(fèi)用。在反應(yīng)區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時(shí)也會(huì)出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴(yán)重的問題。

    2.2氨逃逸的危害

（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費(fèi)，環(huán)境污染；

（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；

（3）逃逸的氨氣，會(huì)與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結(jié)性）使位于脫銷下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕；

（4）過量的逃逸氨會(huì)被飛灰吸收，導(dǎo)致加氣塊（灰磚）無法銷售；

三、規(guī)格與技術(shù)參數(shù)

四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡介

本系統(tǒng)的流路主要由測(cè)量流路、反吹流路、標(biāo)定流路及渦旋制冷流路組成，具體流路示意圖如下：

    系統(tǒng)進(jìn)入測(cè)量狀態(tài)后，電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)帶動(dòng)兩通球閥切換到采樣氣路，在引流泵的作用下，被測(cè)氣體經(jīng)由探頭桿、，兩通球閥、二級(jí)過濾器進(jìn)入NH3模塊，NH3模塊利用吸收技術(shù)（TDLAS）對(duì)氣體進(jìn)行分析，得到NH3的濃度（高溫?zé)釢穹ǎ詈笈趴铡?/span>

    系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入校準(zhǔn)狀態(tài)進(jìn)行自動(dòng)調(diào)零，此時(shí)兩通球閥切換到校準(zhǔn)氣路，校準(zhǔn)電磁閥打開，在引流泵的作用下，環(huán)境空氣經(jīng)過濾器、校準(zhǔn)電磁閥后進(jìn)入氣體室，對(duì)氣體室中殘留的被測(cè)氣體進(jìn)行吹掃，吹掃干凈后，對(duì)NH3進(jìn)行一次調(diào)零；系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入反吹狀態(tài)對(duì)采樣探頭進(jìn)行反吹，此時(shí)兩通球閥切換到反吹氣路，反吹電磁閥打開，系統(tǒng)自動(dòng)控制反吹電磁閥開或關(guān)，實(shí)現(xiàn)對(duì)探頭過濾器的反吹。

五、氨逃逸系統(tǒng)取樣及機(jī)箱

取樣探頭

裝置是具有電加熱伴熱功能，能自行加熱并實(shí)施溫控的采樣裝置。該裝置適用于高溫、高粉塵濃度的SCR/SNCR裝置入口和出口樣氣的連續(xù)采集。示意圖如下：

結(jié)構(gòu)：裝置由取樣管、探頭法蘭、取樣法蘭管、濾芯、反吹氣罐、反吹電磁閥、探頭保溫罩等組成。

機(jī)箱規(guī)格：

本系統(tǒng)集成于機(jī)箱，具體尺寸如下圖：

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